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七赴進(jìn)博之約,ASML沈波:以光刻“鐵三角”助力中國(guó)半導(dǎo)體應(yīng)對(duì)AI浪潮

發(fā)布時(shí)間:2025-11-12 來源:轉(zhuǎn)載 責(zé)任編輯:lily

【導(dǎo)讀】11月5日至10日,第八屆中國(guó)國(guó)際進(jìn)口博覽會(huì)在上海國(guó)家會(huì)展中心成功舉辦。技術(shù)裝備展區(qū)作為全場(chǎng)焦點(diǎn)之一,吸引眾多專業(yè)觀眾駐足交流,現(xiàn)場(chǎng)氣氛熱烈。連續(xù)七年參展的全球光刻技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)者ASML,此次以“積納米之微,成大千世界”為主題,在集成電路專區(qū)展示了其前沿的光刻解決方案。


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ASML全球執(zhí)行副總裁、中國(guó)區(qū)總裁沈波在接受采訪時(shí)強(qiáng)調(diào):“進(jìn)博會(huì)倡導(dǎo)的開放合作理念,與半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)全球化協(xié)作、共同進(jìn)步的特質(zhì)高度契合。我們希望通過這一平臺(tái),與各界伙伴深入交流,分享行業(yè)洞見,展示ASML在光刻領(lǐng)域的最新成果?!?/span>


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AI時(shí)代的兩大挑戰(zhàn):算力需求與能源消耗

隨著人工智能技術(shù)的迅猛發(fā)展,全球半導(dǎo)體行業(yè)正迎來新的變革契機(jī)。沈波指出,AI將成為引領(lǐng)下一波半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)大發(fā)展、并推動(dòng)社會(huì)全面數(shù)字化轉(zhuǎn)型的核心驅(qū)動(dòng)力。根據(jù)麥肯錫預(yù)測(cè),到2030年,AI將為全球GDP貢獻(xiàn)10萬億美元的價(jià)值。

然而,AI的快速發(fā)展也帶來了兩大挑戰(zhàn)。沈波解釋道,一是摩爾定律和AI時(shí)代對(duì)算力需求之間的“剪刀差”——半導(dǎo)體行業(yè)長(zhǎng)期遵循的摩爾定律顯示晶體管數(shù)量每?jī)赡曜笥曳槐?,而AI的算力需求幾乎是每?jī)赡暌?5-16倍的速度增長(zhǎng),這與摩爾定律預(yù)示的線性增長(zhǎng)路徑形成鮮明對(duì)比。

二是能源消耗問題。研究表明,若僅通過增加模型參數(shù)提升性能,且其他技術(shù)條件不變,為了在200小時(shí)內(nèi)完成一次超大模型訓(xùn)練,其所需的計(jì)算速度將導(dǎo)致功耗大幅度提升。


“鐵三角”全景光刻解決方案應(yīng)對(duì)行業(yè)挑戰(zhàn)

面對(duì)這些挑戰(zhàn),延續(xù)摩爾定律仍是關(guān)鍵應(yīng)對(duì)之策。沈波介紹,“通過2D微縮持續(xù)縮小晶體管尺寸、提升晶體管密度與能效,以及借助3D集成進(jìn)行堆疊和封裝,突破平面極限,是芯片行業(yè)在技術(shù)領(lǐng)域?qū)で髣?chuàng)新突破的兩大核心路線?!?/p>

ASML通過“鐵三角”全景光刻解決方案——光刻機(jī)、計(jì)算光刻、量測(cè)與檢測(cè)的協(xié)同,幫助客戶以更低能耗和成本實(shí)現(xiàn)更高良率,提升芯片性能與能效。


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在本次進(jìn)博會(huì)現(xiàn)場(chǎng),ASML以數(shù)字化方式展示了全景光刻解決方案下的多款產(chǎn)品和技術(shù)。沈波詳細(xì)介紹道:“光刻機(jī)幫助客戶制造芯片,計(jì)算光刻創(chuàng)建光刻工藝的精確仿真模型以提高良率和產(chǎn)能,量測(cè)與檢測(cè)設(shè)備用于曝光后晶圓成像檢查和反饋,及時(shí)糾錯(cuò)/調(diào)整光刻工藝實(shí)時(shí)提升良率。”

ASML展示的DUV光刻機(jī)具備多項(xiàng)創(chuàng)新技術(shù)。其中TWINSCAN XT:260是ASML的首款可服務(wù)于先進(jìn)封裝領(lǐng)域的光刻機(jī),該設(shè)備通過光學(xué)系統(tǒng)的創(chuàng)新具有大視場(chǎng)曝光,相較于現(xiàn)有機(jī)型可提升4倍生產(chǎn)效率。沈波補(bǔ)充說:“這款設(shè)備在今年第三季度已正式發(fā)運(yùn)?!?/p>

另一款DUV光刻機(jī)TWINSCAN NXT:870B在升級(jí)的光學(xué)器件和最新一代磁懸浮平臺(tái)的支持下,可實(shí)現(xiàn)每小時(shí)晶圓產(chǎn)量400片以上,并為鍵合后的套刻和階梯式工藝提供強(qiáng)大的校正能力。


值得一提的是,ASML的DUV光刻機(jī)創(chuàng)新性地引入了鉆石涂層,能夠有效減少設(shè)備磨損,延長(zhǎng)使用壽命,降低更換需求與維護(hù)成本。


深耕中國(guó)市場(chǎng)三十余載,團(tuán)隊(duì)持續(xù)壯大

自1988年向中國(guó)交付首臺(tái)步進(jìn)式光刻機(jī)起,ASML在華征程已逾三十載。沈波表示,ASML參與并見證了中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展歷程,在合法合規(guī)前提下始終為中國(guó)客戶提供堅(jiān)實(shí)支持。

如今,中國(guó)已成為ASML最重要的市場(chǎng)之一。ASML在中國(guó)17個(gè)城市設(shè)有辦事處、還有15個(gè)倉(cāng)儲(chǔ)物流中心、3個(gè)開發(fā)中心、1個(gè)培訓(xùn)中心以及1個(gè)維修中心,形成了集開發(fā)、支持、服務(wù)與人才培養(yǎng)于一體的綜合體系。

ASML在中國(guó)的團(tuán)隊(duì)也在持續(xù)壯大。沈波介紹:“目前ASML中國(guó)區(qū)員工人數(shù)已經(jīng)突破2000人,相比去年的1800人實(shí)現(xiàn)了約10%的穩(wěn)健增長(zhǎng)。我們?cè)谥袊?guó)的計(jì)算光刻和電子束量測(cè)開發(fā)團(tuán)隊(duì)超過400人,今年新增的200名員工中客戶服務(wù)工程師占據(jù)很大比重?!?br/>

在業(yè)務(wù)發(fā)展的同時(shí),ASML也積極踐行企業(yè)社會(huì)責(zé)任。沈波分享道:“團(tuán)隊(duì)在全國(guó)各地開展ESG活動(dòng),包括慈善活動(dòng)、科技類活動(dòng)等,例如我們的西安團(tuán)隊(duì)每年都會(huì)定期前往當(dāng)?shù)剜l(xiāng)鎮(zhèn)小學(xué),為留守兒童組織活動(dòng),給予他們陪伴與關(guān)懷?!?br/>


行業(yè)前景樂觀,穩(wěn)健增長(zhǎng)可期

在采訪的最后,沈波分享了對(duì)ASML業(yè)績(jī)以及行業(yè)發(fā)展的看法:“根據(jù)公司最新第三季度財(cái)報(bào),ASML預(yù)期2025年全年銷售額將實(shí)現(xiàn)15%的同比增長(zhǎng)。當(dāng)前,半導(dǎo)體行業(yè)整體仍處于調(diào)整階段,并正逐步進(jìn)入上行周期,全年15%的幅度是一個(gè)比較穩(wěn)健的增長(zhǎng)。”

中長(zhǎng)期來看,公司持續(xù)看好行業(yè)發(fā)展。沈波表示,ASML基本維持對(duì)2030年?duì)I業(yè)額達(dá)到440億至600億歐元的預(yù)期,“整體而言,我們對(duì)行業(yè)前景保持樂觀態(tài)度。”

隨著人工智能時(shí)代的全面到來,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正站在新的歷史起點(diǎn)。ASML通過其全景光刻解決方案,正積極助力全球半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)對(duì)算力與能效挑戰(zhàn),推動(dòng)技術(shù)創(chuàng)新與產(chǎn)業(yè)升級(jí)。


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